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铜箔软连接性能与生产制作工艺流程

铜箔软连接性能与生产制作工艺流程 铜箔软连接性能与生产制作工艺流程
  • 铜箔软连接性能与生产制作工艺流程
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    东莞市银泓电气科技有限公司
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    10.00
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    1件
  • 地址:
    广东省东莞市上屯村聚园二路鑫瑞工业园A栋102号一楼
  • 手机:
    13925517542
  • 联系人:
    王勉 (请说在中科商务网上看到)
  • 产品编号:
    132315286
  • 更新时间:
    2021-02-09
  • 发布者IP:
    14.219.223.31
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详细说明

  铜箔软连接又叫压焊软连接,铜皮软连接又叫钎焊软连接,铜箔软连接采用优质T2紫铜或无氧铜带,按0.10mm(标准设计)或者按照客户要求使用0.03,0.05,0.20,0.30,0.40,0.50mm的铜箔组成的,安装接触面采用压焊设计生产。

  分子扩散焊是一种特殊的焊接工艺,能使不同强度的铜箔在特定的区域焊接在一起,铜箔软连接焊接工艺不需要使用任何形式的助焊剂。得益于这种完美的分子连接性,分子扩散焊铜箔软连接是一种绝佳的电导体,安装接触面可以承受任何形式的挤压,弯曲或碰撞。由于安装接触面是定制的,所以他可以安装到只有2毫米的空间内(例如发电机内部作连接用)。广泛适用于新能源汽车,电动汽车,电力电工软连接,大电流软连接片高低压电器,储能锂电池软连接,高低压开关柜,电焊机,电炉,矿用防爆电器,发电机组,碳刷导线的软连接,可针对新能源汽车电池柔性导电连接领域进行专业设计定制加工。

  铜箔软连接的生产工序:

  1、领料:原材料一般分为硬态和软态两种型号,即t2y和t2m

  按照客户及工艺要求选用相应的原材料:

  ①一般表面选用内外贴t2y 0.1mm、0.15mm,t2m 0.2mm、0.3mm,内层选用t2m 0.05mm-0.1mm或全部选用t2m 0.2mm-0.5mm,也可选用t2y0.03mm-0.1mm,如果内层选用t2y 0.03-0.05mm或t2m 0.05mm时,表面内外各贴2-3片t2y 0.1mm

  ②内层选用0.03-0.1时,表面内外贴一片化学镀镍电镀银或化学电镀镍

  ③选用0.2mm或0.2mm以上的铜带时,通常用t2m 0.2mm或0.2mm以上的软带,表面无需增加其他铜带

  2、下料:根据工件的大小、加工难易度和精度要求,选用下料方式:

  ①绕制,t2y 0.1mm厚度≤4mm,t2y 0.05mm厚度≤6mm,宽度10-60mm,易产生废料,但效率高,适合1人焊接(等长、不等长都可以)

  ②设备裁切,根据工艺要求,裁切等长或不等长(要求精度较高的工件)

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