氧气净化(纯化)装置
氧气多数是从液态空气中制取的，其中含有微量的水、氮、二氧化碳及一些惰性气体。氧气的纯化有低温精馏法、催化反应法和吸附法。一般采用氯化钙、105催化剂、分子筛注液氮冷阱和下班滤球去除其杂质，将低纯度的氧净化为高纯度的氧。
本公司精心设计制造的一款应用广泛的氧气净化装置，选材精良，精巧的外观设计，合理的销售价格，恒定的质量保障，热诚的服务，实为质优价廉之精品。
氧气纯化装置采用特制催化剂。以工业普氧气为原料气，经催化吸收。过滤的方法除去氧中杂质氢，甲烷。一氧化碳，二氧化碳，水汽和尘埃，获得高纯度氧气。
GB/T14599《高纯氧》国家标准要求高纯氧的主要技术指标应达到下表的要求
超纯高纯氧的主要技术指标
项目 指标
优等品 一等品 合格品
氧纯度/% ≥ 99.99 99.98 99.995
氩含量/10-6 ≤ 2 5 10
氮含量/10-6 ≤ 5 1020
二氧化碳含量/10-6≤ 0.5 1 1
总烃含量（以甲烷计）/10-6≤ 0.51 2
露点/ ℃ ≤ -72 -70 -69
水分含量/10-6 ≤ 22.53
本产品结构简单，系统气密性良好，所以催化剂可长期使用无需再生，吸附剂可在产品再生后重复使用。此外氧气在金属切割及焊接等方面也有着广泛的用途。
本系列中压氧气纯化装置适用于需要大量高纯气体的半导体，光纤，显像管等主要生产部门氩气纯化器采用镍合金微孔滤膜，不锈钢外壳，去除气体中的尘埃粒子，进出口为法兰连接或螺纹连接。具有过滤精度高、气密性好、流量大、阻力小、强度好、易再生、寿命长等特点。适用与科研、生产部门作为各种非腐蚀性气体的终端过滤装置。广泛应用于精密机械、半导体器件电真空器件、半导体材料光导纤维等生产工艺
1. 冶金工业
在炼钢过程中吹以高纯度氧气，氧便和碳及磷、硫、硅等起氧化反应，这不但降低了钢的含碳量，还有利于清除磷、硫、硅等杂质。而且氧化过程中产生的热量足以维持炼钢过程所需的温度，因此，吹氧不但缩短了冶炼时间，同时提高了钢的质量。高炉炼铁时，提高鼓风中的氧浓度可以降焦比，提高产量。在有色金属冶炼中，采用富氧也可以缩短冶炼时间提高产量。
2.化学工业 在生产合成氨时，氧气主要用于原料气的氧化，例如，重油的高温裂化，以及煤粉的气化等，以强化工艺过程，提高化肥产量。
3.国防工业 液氧是现代火箭最好的助燃剂，在超音速飞机中也需要液氧作氧化剂，可燃物质浸渍液氧后具有强烈的爆炸性，可制作液氧。
4,医疗保健方面:供给呼吸:用于缺氧、低氧或无
氧环境，例如:潜水作业、登山运动、高空飞行、宇宙航行、医疗抢救等时。