采用超高真空容器，产品事先放置在容器中，通过磁控溅射工艺对靶材辉光放电，溅射出来的离子沉积在基材表面上。它与直流溅射的区别在于不会造成靶材中毒，有更强的溅射量等优点；中频磁控溅射镀膜法采用超高真空10-3以下，在密闭高真空容器里面配合高温。利用PVD物理气相沉积。在表面形成致密金属膜层，表面离子分列均匀，结合气体与靶材的化学分子反应，可结合出化合物膜。使之表面涂层硬度更高，各项性能得到很好提升，更能够得到各种颜色的金属膜层。
IP中频磁控溅射镀膜设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体，结合线离化源及泳冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化。膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。广泛适用于手表、首饰穿刺、眼镜框架、手机壳、居家装饰五金、卫浴洁具、餐具等。可镀制Tin、Tio、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、ZrN、TiNC等等。可镀膜颜色有玫瑰金，宝石蓝，黄钛金，咖啡色、仿古铜、IP黑，枪黑色等各种性能的各种颜色。
本公司可按用户要求提供设计，提供全套设备，负责工艺，按交“钥匙”工程服务。